光酸化と光触媒の比較
撥水評価(暴露)
光触媒のしくみ



光との密接な関係を知っていただくこと。快適環境への第一歩です。


光酸化防汚技術による防汚プロセスと光触媒防汚技術との比較

従来の光触媒技術では帯電する傾向があり、汚れを吸着しながら分解するという矛盾点がありましたが、光酸化では造膜表面の電荷反発を利用することで、その矛盾点を解決しました。(なお、基板表面に流水・風雨が接触すれば、超親水機能とあわせて、より早期に汚れを除去することが出来ます。)

光酸化防汚技術 光触媒防汚技術
造膜表面
電荷状態
非結晶型過酸化チタンを含む溶液を塗布し、表面をプラス電荷にする。
防汚の
プロセス
A-1. 基板表面電荷状態とする。 B-1. 基板表面電荷状態とする。
A-2. 油などの有機物(汚れ)が付着し、その有機物に紫外線や電磁波などを含む光が当たる。 B-2. 油などの有機物(汚れ)が付着し、その有機物に紫外線や電磁波などを含む光が当たる。
A-3. 有機物が酸化され、プラス電荷を始める。造膜表面のプラス電荷と有機物のプラス電荷が反発しあい、基板表面に汚れを付着させない。 B-3. 有機物が酸化され、プラス電荷を始める。プラス電荷された有機物は、マイナス電荷を帯びた造膜表面に吸着する。その後、太陽光などの光を受けることで光触媒の分解作用が進む。
A-4. A-3状態の基板表面に流水・風雨が接触すれば、超親水機能とあわせて、より早期に除去される。 B-4. 分解作用が進んで固着力が低下したところで、基板表面に流水・風雨が接触し、除去される。

シリコン系シール撥水評価(1年暴露)

光触媒のしくみ


光触媒は、触媒である酸化チタン膜と、太陽光や照明などの光(紫外線)、空気中の水と酸素などから強いエネルギーを作り出します。
汚れ(有機物)はその強いエネルギーにより、自然に分解・除去され、クリーンな状態が維持されます。
光触媒による快適環境は自然環境を破壊しません。

光触媒のしくみ その1
1.光半導体(酸化チタン)に太陽光などに含まれる紫外線が当たり励起状態になると、電子が飛び出します。
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